电阻蒸发镀膜机

2021-08-18

[设备主要用途]

真空电阻蒸发镀膜机采用电阻蒸发方式，可对金属材料进行蒸发镀膜。

用于制备各种金属导电薄膜、半导体薄膜、铁电薄膜、光学薄膜等。

[设备主要组成]

该设备由真空室、样品加热转台、电阻蒸发源、蒸发控温电源、真空获得与测量、电控系统、升降装置、安装机架等组成。

[设备技术性能指标]

极限真空：≤5×10-5Pa

镀膜室尺寸：Φ300×H400（㎜）,单层壁面全不锈钢制钟罩形立式真空室，电动升降。

样品尺寸：30×30 可一次装4片，样品不加热不旋转，但可上下升降

蒸发源：金属蒸发源共2组，水冷铜电极；

有机蒸发源：2组，石英坩埚，温度可控可调。

蒸发源电源：金属蒸发源2KW，2台，精确控制其蒸发速率

石英晶振膜厚监测仪：厚度测量范围：0.1?～99μ

[设备安装条件]

供电电源：三相380V 50Hz 8KW

冷却水：水压≥2kg/cm2 ，流量≈0.6m3/h

占地面积：主机：1000mm×850mm 电控柜： 600mm×600mm

总重量：约300kg

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