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什么叫磁控溅射工艺
2023-09-05
磁控溅射工艺是一种表面处理技术，通过先将目标材料置于真空室内，然后使用高能离子轰击目标材料，使其表面部分被剥离出来，并在真空中形成薄膜沉积在基材上。这个过程中，磁场被用来控制离子轰击目标材料的方向和速度，以获得所需的薄膜沉积效果。磁控溅射工艺通常应用于表面涂层、光学膜、金属薄膜等领域。
上一条：真空炉和钎焊炉的区别
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